国产光刻机下马之殇：我国也曾领先世界！但40年前却自废武功

2022-01-21  来源  审核中

国产光刻机下马之殇：我国也曾领先世界！但40年前却自废武功

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国产光刻机下马之殇：我国也曾领先世界！但40年前却自废武功

2021-06-03 09:46:52　来源: 迷彩虎军事  举报2224分享至

美国卡住了我国芯片产业的脖子，我国现阶段光刻机所能制造的最高级别芯片是14纳米，无法满足如华为手机等高端芯片的应用，因此只能从荷兰ASML公司进口。这让14亿人第一次知道了一个词：光刻机。我国造出了核弹、航母、超级计算机，难道就造不出光刻机吗？我国不是造不出光刻机，其实上世纪60年代我国就曾布局光刻机技术，当时我国技术先进，那时荷兰ASML还没诞生呢。然而到了上世纪八十年代，一系列军用、民用高精尖技术项目下马，光刻机也在其中，没有了国家支持，一切都成了空谈。

光刻机是在比头发丝还细小的地方利用激光印制电子元件。我国工业化起步晚，至今还有很多空白，所以光刻机就是横亘在我国发展道路上的一座大山。其实大家不知道的是，我国的光刻机技术曾站在世界前列。1958年，全球第一台晶体计算机诞生，光刻机也就此登上历史舞台。1961年我国就启动了集成电路课题研究组，专攻晶体集成电路的技术。1966年，中国第一台光刻机研制成功，可以生产35NM硅圆片，为当时我国的半导体产业打下坚实基础。1974年全国掀起了大规模集成电路及基础材料攻关大会战，主攻集成电路半导体。

二十世纪60年代我国开始布局研发光刻机，那时，荷兰光刻机制造巨头 ASML还没有成立。二十世纪七十年代，中国科学院开始研究计算机辅助光掩模工艺。一九七二年武汉三厂编拟工业生产指南“光刻掩版制造”。1977年，中国科学院化学研究所光致抗蚀剂研究小组编制《光刻胶》作为行业资料。清华1980年研制成功的第四代光刻机，精度达到3微米，接近国际主流光刻机水平。但是，80年代后光刻机项目下马，从此我国芯片产业就落下帷幕，到2020年，中国的手机芯片被扼住了咽喉。

可以说当时我国的集成电路产业很蓬勃，技术也一直走在国际前列，并不比西方欧美差多少。当时我国的半自动光刻机在各项性能指标上无器对标隔壁日本，要知道那可是上世纪80年代，正是日本半导体产业突飞猛进的时期，而我国并不满足于这些，继续研制出了分布式光刻机，与当时美国的最高技术旗鼓相当。

但让人没有想到的是，发展到这时的中国国产光刻机就此戛然而止。80年代我国开始大规模引进外资，用市场换技术，贸工技的路线挤压了国产化技术的空间，许多国企纷纷转型转产，很多大型项目也接连落马，没有了政府的支持，项目停滞。在当时“造不如买，买不如租”成了社会主流，国产半导体产业欣欣向荣，但国产光刻机技术却在不断没落。国产机场电路产业自此出现技术脱节，再也追赶不上国际一流水平了，而现在我们咬牙奋斗，就是在为当年的错误决定买单。（文/山峰）

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江苏农南通农夫任侠家评曰:

(1)必须搞光刻机!国家出面,两院牵头,大家协同合作,出产品,又出人材,双丰收,暂不想超荷兰,先要追荷兰,双方追近, 

(2)能做14纳米芯片了,这是基础,向10纳米前进! 

(3)制造芯片的摩尔定律快到头了,1纳米以下的芯片性能是很难达到理想要求的!

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