0.768nm!全球最高分辨率光刻机面世,但不是ASML制造
2022-09-26 20:02:10
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0.768nm!全球最高分辨率光刻机面世,但不是ASML制造

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2022-09-26 17:09安徽2022百度影响力创作者,百家榜创作者,优质科技领域创作者

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制程工艺在很大一部分程度上决定了芯片的性能水平,就像智能手机SoC芯片中的顶流苹果A系列芯片,正是因为多代都采用了台积电的最新先进制程工艺,才保证了性能水平一直保持在业界顶尖。

最强光刻机?

制程工艺的提升,主要依赖于EUV光刻机。目前,世界上能够生产EUV光刻机只有ASML一个独苗。其最新研发的0.55NA EUV光刻机,已经成为了芯片头部制造企业(台积电、三星和英特尔)突破纳米极限的倚仗。

但即便是ASML0.55 NA EUV光刻机,也难以突破1nm极限,将制程工艺提升到1nm以下。本以为这将会是一个“死结”,但没想到的是已经有机构突破了这个极限,将制程工艺精确到了埃米级,实在让人惊叹。

更有意思的是,这个实现的突破的机构并不是ASML,而是一家名字叫做Zyvex Labs 的美企。Zyvex Labs专攻于开发和商业化原子精密制造(APM)技术,最近他们推出了一款全球最高分辨率的亚纳米分辨率光刻系统“ZyvexLitho1”。

这个惊人的系统,可以制造仅有0.768nm线宽的芯片,比起还在1nm以上玩耍的EUV光刻机,简直已经不在一个层面上。不过,ASML已经在业界走到了头,几乎没有人能在同一技术领域击败他,Zyvex Labs 当然也不行,其采用的是另一种技术——电子束光刻(EBL)技术。

是否会改变芯片制造业格局

ZyvexLitho1所采用的(EBL)技术,使用了非传统的氢去钝化光刻(HDL)技术,从Si(100) 2×1二聚体列(dimer row)重建表面去除氢(H)原子,实现了比传统的EBL技术更高的分辨率和精确度。

听上去都是一些专业术语,其实不知道原理也无伤大雅,我们只要明白Zyvex Labs 公司所研发的ZyvexLitho1系统,已经做到了EUV光刻机所做不到的事情。

问题来了,既然ZyvexLitho1都这么牛了,它接下来会对EUV光刻机形成降维打击,甚至改变芯片市场的格局吗?如果真的会这样的话,Zyvex Labs 公司作为一家美企,岂不是很容易成为一把刺向我们的“刀”?

好消息是,目前还不用担心这一点,因为当前市场上的光刻机除了要求制程工艺之外,还需要一个极其重要的属性——规模量产。EBL电子束光刻机的缺陷恰恰在此,它不适合量产,只适合少量制作高精准的芯片。

当然了这样不意味着可以高枕无忧了。因为技术一直在向前,保不齐在若干一段时间之后,这个缺陷就会被克服呢?还是那个道理,我们的成功不能建立在别人犯错或停下脚步的基础上。

前沿科技已经成为重要竞争点

Zyvex Labs 的突破还给我们带来另一层警示,那就是在一些前沿科技领域,竞争已经非常激烈,我们必须分秒必争。

以这项突破了制程精度“天际”的技术为例,用其生产的芯片可以被用于量子计算领域,为量子计算机带去强大的算力。

量子技术,是未来的方向之一,我国已经走在了世界前列,尤其是量子通信,更是鲜有对手。但现在每天都可能会有新的技术突破发生,继而对量子竞争的格局产生影响。

说到底,像量子技术,人工智能这样的前沿科技,比得就是谁跑对了方向,谁跑得更快。而未来将会发生什么,我们也不知晓。唯一可以确定的是:大家都在拼命往前跑,没有人会在原地等。


 
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